Описание материалов для испарения теллурида алюминия
Откройте для себя передовые испарительные материалы из теллурида алюминия, предлагаемые Stanford Advanced Materials. Этот керамический испарительный материал имеет химическую формулу Al2Te3. Высокочистые испарительные материалы Al2Te3 играют важную роль в процессах осаждения, обеспечивая получение высококачественных осажденных пленок. Stanford Advanced Materials (SAM) производит испарительные материалы с уровнем чистоты до 99,9995 %, используя процессы контроля качества для обеспечения надежности продукции.
Спецификация испарительных материалов на основе теллурида алюминия
| Формула соединения |
Al2Te3 |
| Молекулярный вес |
436.76 |
| Внешний вид |
Темно-серый или черный |
| Температура плавления |
900 °C |
| Температура кипения |
Н/А |
| Плотность |
4,5 г/см3 |
Применение материалов для выпарки теллурида алюминия
Испарительные материалы на основе теллурида алюминия (Al2Te3) находят разнообразное применение в полупроводниковой технологии и производстве оптоэлектронных устройств. В первую очередь, они используются в качестве полупроводниковых материалов в таких электронных устройствах, как транзисторы и диоды, благодаря своим полупроводниковым свойствам и совместимости с другими полупроводниковыми материалами. Кроме того, тонкие пленки Al2Te3 находят широкое применение в инфракрасной оптике для систем тепловидения и ночного видения, а также служат важнейшими компонентами в оптоэлектронных устройствах, таких как фотодетекторы, светодиоды и лазерные диоды. Кроме того, AlTe играет важную роль в научных исследованиях и разработках, способствуя изучению его фундаментальных свойств и поиску новых применений в развивающихся технологиях. В целом, теллурид алюминия играет важнейшую роль в развитии полупроводниковых технологий, позволяя создавать высокопроизводительные электронные и оптоэлектронные устройства в различных отраслях промышленности и научных областях.
Упаковка материалов для испарения теллурида алюминия
Наши гранулы для испарения теллурида алюминия тщательно упаковываются в пластиковый вакуумный пакет для предотвращения повреждений при хранении и транспортировке, сохраняя качество нашей продукции в первоначальном состоянии. Кроме того, к упаковке прилагается сертификат анализа сырья (COA).
Получить контакт
Stanford Advanced Materials (SAM) специализируется на производстве высокочистых материалов для испарения теллурида алюминия исключительного качества, пригодных для использования в полупроводниковой технике, химическом осаждении из паровой фазы (CVD), физическом осаждении из паровой фазы (PVD), дисплеях и оптических приложениях. Уникальная синергия между нашими инженерными, производственными и аналитическими группами позволяет нам поставлять лучшие в отрасли испарительные материалы.
