Описание испарительных материалов на основе силицида гафния
Hafnium Silicide Evaporation Material, поставляемый компанией Stanford Advanced Materials, представляет собой замечательный силицидный керамический испарительный материал с химической формулой HfSi2. Значение высокочистых испарительных материалов HfSi2 в процессах осаждения невозможно недооценить, поскольку они обеспечивают осаждение пленок высочайшего качества. Компания Stanford Advanced Materials (SAM) специализируется на производстве испарительных материалов с уровнем чистоты до 99,9995 %, что подкрепляется строгими процессами контроля качества, гарантирующими максимальную надежность продукции.
Спецификация испарительных материалов на основе силицида гафния
Спецификация |
Описание |
Тип материала |
Силикат гафния(IV) |
Символ |
HfSi2 |
Внешний вид/цвет |
Тетрагональный кристалл |
Температура плавления |
2,758 °C (4,996 °F; 3,031 K) |
Плотность |
7,0 г/см³ |
Чистота |
99.5% |
Доступные формы |
Порошок, гранулы, изготовление на заказ |
Применение испарительных материалов на основе силицида гафния
Материалы для испарения силицида гафния находят широкое применение в процессах осаждения, охватывающих осаждение полупроводников, химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и физическое осаждение из паровой фазы (PVD). Их основное применение лежит в области оптики, включая защиту от износа, декоративные покрытия и достижения в области дисплейных технологий.
Упаковка материалов для испарения силицида гафния
Компания Stanford Advanced Materials (SAM) уделяет первостепенное внимание эффективной идентификации и контролю качества наших материалов для испарения силицида гафния. Эти материалы тщательно маркируются и имеют внешнюю маркировку, что отражает наше стремление избежать любых возможных повреждений при хранении или транспортировке.