AL10245 Сапфировая пластина Al2O3 A плоскость (11-20) 5x5x0.5 мм

Сапфировая пластина Al2O3 A plane (11-20) 5x5x0.5 мм Описание

Сапфировая пластина Al2O3 A plane (11-20) 5x5x0.5 мм производится из синтетического оксида алюминия (Al2O3) с использованием контролируемых термических процессов для достижения необходимой ориентации A plane (11-20). Размеры пластины 5 мм на 5 мм при толщине 0,5 мм обеспечивают совместимость со стандартным оборудованием для производства полупроводников. Особое кристаллографическое выравнивание обеспечивает заданные анизотропные свойства, важные для оптических и электрических приложений. Контролируемая обработка сводит к минимуму дефекты, что очень важно для точной работы устройства.

Сапфировая пластина Al2O3 A плоскость (11-20) 5x5x0,5 мм Применение

Электроника
- Используется в качестве подложки в компонентах радиочастотных цепей для минимизации потерь сигнала за счет использования стабильных диэлектрических свойств.
- Служит в качестве базового слоя в полупроводниковых микроустройствах для обеспечения стабильности размеров за счет использования однородной кристаллографической структуры.

Оптоэлектроника
- Применяется в качестве оптического окна в светодиодных модулях для обеспечения стабильного светопропускания за счет использования структуры решетки, контролируемой дефектами.
- Часто используется в компонентах лазерных сборок для точного управления фотонами за счет использования преимуществ анизотропных свойств пластин.

Сапфировая пластина Al2O3 A плоскость (11-20) 5x5x0,5 мм Упаковка

Пластины индивидуально упакованы в антистатический чехол и помещены в жесткий контейнер с пенопластовой прокладкой для предотвращения механических повреждений и загрязнений. Для сохранения целостности поверхности рекомендуется хранение при контролируемой температуре и низкой влажности. Дополнительные опции по заказу включают влагозащитную упаковку и специальную маркировку в соответствии с лабораторными или производственными стандартами.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Как контролируемая ориентация плоскости A (11-20) влияет на производительность устройства?
A1: Контролируемая ориентация плоскости A (11-20) улучшает анизотропные свойства, что крайне важно для предсказуемого оптического и электронного поведения устройств. Такое выравнивание улучшает согласованность распространения сигнала и поддерживает точное нанесение рисунка при изготовлении полупроводников.

В2: Какие меры принимаются в процессе производства для обеспечения минимальных дефектов поверхности?
A2: Производственный процесс включает высокотемпературный синтез и проверку поверхности с помощью SEM. Эти меры применяются для измерения и поддержания низкой плотности поверхностных дефектов, что очень важно для обеспечения эффективной интеграции устройств и их долговременной работы.

Q3: Как поддерживается однородность толщины пластин в процессе производства?
A3: Для поддержания однородности толщины 0,5 мм используется строгий контроль технологического процесса, такой как прецизионная механическая полировка и поточное измерение толщины. Эти средства контроля предотвращают отклонения, которые могут повлиять на совместимость устройств и общую эффективность производства.

Дополнительная информация

Сапфировые подложки, состоящие из оксида алюминия (Al2O3), являются неотъемлемой частью производства различных полупроводниковых и оптоэлектронных устройств. Присущие им химическая инертность и оптическая прозрачность делают их пригодными для приложений, требующих высокой теплопроводности и структурной стабильности. Эти свойства в первую очередь обусловлены прочной кристаллической связью, присутствующей в материалах Al2O3.

Ориентация в плоскости A (11-20) в этих подложках обеспечивает определенное анизотропное поведение, которое может быть использовано в передовых электронных и фотонных системах. Создание таких подложек требует точной термической и механической обработки, гарантирующей, что микроструктурные свойства будут способствовать применению высокопроизводительных устройств в различных технических отраслях.