AL10272 Сапфировая пластина Al2O3 C-плоскость (0001) Диам. 3 дюйма x 0,5 мм

Сапфировая пластина Al2O3 C-plane (0001) Диам. 3 дюйма x 0,5 мм Описание

Эта пластина состоит из монокристалла Al2O3, известного своей высокой температурой плавления и химической стабильностью. Ориентация C-плоскости (0001) обеспечивает гладкую, однородную поверхность, которая необходима для равномерного осаждения тонких пленок и изготовления устройств. Диаметр 3 дюйма и толщина 0,5 мм выдерживаются с жесткими допусками, что позволяет использовать стандартное оборудование для обработки полупроводников. Свойства материала способствуют применению в приложениях, требующих высокой диэлектрической прочности и устойчивости к тепловым ударам.

Сапфировая пластина Al2O3 C-plane (0001) Диам. 3 дюйма x 0,5 мм Области применения

1.Электроника и производство полупроводников
- Используется в качестве подложки в интегральных схемах для достижения равномерного роста пленки за счет использования ее постоянной кристаллографической ориентации.
- Применяется в качестве платформы для эпитаксиальных слоев при изготовлении светодиодов для повышения производительности устройств за счет контролируемых свойств поверхности.

2.Оптоэлектроника и сенсоры
- Используется в качестве основы для оптических датчиков для улучшения однородности сигнала за счет низкой шероховатости поверхности.
- Используется в фотонных устройствах для обеспечения стабильной передачи света за счет высокой прозрачности и химической стабильности материала.

Сапфировая пластина Al2O3 C-plane (0001) Диам. 3 дюйма x 0,5 мм Упаковка

Пластины индивидуально упакованы в антистатическую упаковку класса "чистая комната", чтобы минимизировать загрязнение частицами и механические повреждения. Она помещена в акриловый держатель и проложена пенопластовыми вставками. Упаковка запечатана в инертный, влагостойкий конверт для сохранения целостности поверхности при транспортировке и хранении. Рекомендации по обращению с пластинами обеспечивают поддержание их первозданного состояния, а для специальных протоколов обращения доступны индивидуальные опции.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Какие меры принимаются для контроля кристаллографической однородности пластин?
A1: Процесс производства включает контролируемый высокотемпературный отжиг и поточные проверки с помощью атомно-силовой микроскопии для оценки однородности поверхности и выявления любых отклонений в ориентации (0001).

Q2: Как влияет допуск на толщину пластины на изготовление устройства?
A2: Постоянная толщина 0,5 мм обеспечивает совместимость со стандартным оборудованием и точное выравнивание в процессе фотолитографии, что позволяет уменьшить отклонения в процессе и повысить производительность устройства.

Q3: Какие условия хранения рекомендуются для сохранения свойств пластины?
A3: Пластины следует хранить в условиях низкой влажности и температуры в антистатической упаковке, чтобы предотвратить загрязнение поверхности и структурные напряжения, которые могут повлиять на их характеристики.

Дополнительная информация

Пластины из оксида алюминия (Al2O3) служат незаменимыми подложками в различных высокотемпературных и коррозионных средах благодаря своей превосходной термической стабильности и химической инертности. Контролируемая ориентация C-плоскости критически важна для приложений, требующих однородной поверхностной энергии, влияющей на адгезию пленки и эпитаксиальный рост.

Понимание важности кристаллографической ориентации сапфировых подложек может помочь исследователям в оптимизации методов осаждения и совершенствовании архитектур устройств. Такое понимание ценно при разработке передовых полупроводниковых и оптоэлектронных систем, где свойства материала напрямую влияют на эффективность работы.