AL10282 Сапфировая пластина Al2O3 (0001) 100 мм диам. x 0,65 мм

Сапфировая пластина Al2O3 (0001) 100 мм диам. х 0,65 мм Описание

Сапфировая пластина Al2O3 (0001) диаметром 100 мм x 0,65 мм представляет собой точно изготовленную кристаллическую подложку, состоящую из оксида алюминия. Определенная ориентация (0001) и жесткие допуски на размеры обеспечивают совместимость со стандартным оборудованием для обработки полупроводников. Ее равномерная толщина и низкая плотность дефектов способствуют высокоточному эпитаксиальному осаждению и изготовлению микроэлектронных устройств, поддерживая передовые процессы исследования и разработки материалов.

Сапфировая пластина Al2O3 (0001) диам. 100 мм x 0,65 мм Применение

Электроника
- Используется в качестве подложки в полупроводниковых устройствах для достижения равномерного эпитаксиального осаждения за счет контролируемой кристаллографической ориентации (0001).

Оптоэлектроника
- Применяется в качестве базового материала при производстве светодиодов и лазерных диодов для повышения оптической четкости за счет высокого оптического пропускания и точной плоскостности поверхности.

Научные исследования
- Используется в качестве тестовой платформы для передовых исследований материалов для достижения низкой плотности дислокаций за счет использования его постоянной кристаллической структуры и равномерной толщины.

Сапфировая пластина Al2O3 (0001) Диаметр 100 мм x 0,65 мм Упаковка

Пластины индивидуально закрепляются в антистатических прокладках и помещаются в жесткие лотки, совместимые с чистыми помещениями. Они упакованы с использованием влагостойких материалов для предотвращения загрязнения. Рекомендации по хранению включают сухую, контролируемую температуру. Для соблюдения особых протоколов хранения и обработки возможны варианты индивидуальной маркировки и раздельной упаковки.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Как SAM обеспечивает плоскостность поверхности пластин и контроль дефектов?
A1: В процессе обработки SAM использует оптическую интерферометрию и SEM-инспекцию для измерения плоскостности поверхности и контроля плотности дефектов, что гарантирует соответствие каждой пластины строгим критериям производительности для последующих производственных процессов.

Q2: Какие меры принимаются для предотвращения загрязнения при обработке пластин?
A2: Пластины обрабатываются в чистых помещениях и упаковываются в антистатические и влагостойкие контейнеры. Эти меры сводят к минимуму выпадение частиц и загрязнение поверхности, сохраняя структурную целостность пластин.

Q3: Как допуски на размеры влияют на последующую обработку?
A3: Постоянство диаметра и толщины напрямую влияет на однородность процесса эпитаксиального осаждения. Жесткие допуски обеспечивают совместимость со стандартными инструментами обработки, снижая вариабельность при изготовлении устройств.

Дополнительная информация

Оксид алюминия (Al2O3) играет важную роль в различных высокопроизводительных приложениях благодаря своей химической инертности и отличным тепловым свойствам. Сапфировые подложки широко используются в полупроводниковых и оптических устройствах, где важна точная микроструктурная однородность и низкая плотность дефектов.

Передовые методы изготовления, включая химическое осаждение из паровой фазы и профилометрию поверхности, позволяют точно контролировать ориентацию и толщину кристаллов. Такая точность жизненно важна для применения в микроэлектронике и исследованиях материалов, где даже незначительные отклонения могут повлиять на общую производительность устройства.