AL10302 Двухсторонний полированный шаблон из нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 1000 нм

Двухсторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 1000 нм Описание

Двухсторонний полированный шаблон из нитрида алюминия включает в себя пленку AlN толщиной 1000 нм на сапфировой подложке Al2O3 (0001). Его размеры 2 дюйма на 0,5 мм оптимизированы для применения в полупроводниках и микроэлектронике. AlN улучшает теплопроводность, а сапфировая основа уменьшает несоответствие решетки. Такая структура облегчает точное осаждение пленки и минимизирует напряжение, что делает ее пригодной для интеграции высокопроизводительных электронных устройств.

Двухсторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 1000 нм Применение

1.Электроника
- Используется в качестве диэлектрической подложки в радиочастотных цепях для минимизации потерь сигнала за счет низкой диэлектрической проницаемости.
- Применяется в качестве теплораспределителя в силовых модулях для поддержания термостабильности за счет высокой теплопроводности.

2.Промышленный
- Используется в качестве платформы для микроэлектронных датчиков для улучшения целостности сигнала за счет однородной поверхности пленки.
- Применяется в качестве изолирующего слоя в прецизионных измерительных устройствах для достижения точных показаний за счет контролируемых свойств материала.

Двухсторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 1000 нм Упаковка

Подложка упакована в антистатические контейнеры с пенопластовой прокладкой и запечатана во влагонепроницаемые пакеты для предотвращения загрязнения и механических повреждений. Защитная амортизация минимизирует вибрацию и удары при транспортировке. Для сохранения целостности пленки ее следует хранить в чистых, сухих, контролируемых по температуре помещениях. По запросу возможны нестандартные варианты упаковки, включая вкладыши с отделениями и подробную маркировку.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Как контролируется толщина пленки 1000 нм во время производства?
A1: Толщина пленки проверяется с помощью спектроскопической эллипсометрии и профилометрии, что обеспечивает постоянную скорость осаждения и равномерность по поверхности подложки для обработки полупроводников.

Q2: Какие меры предосторожности следует принимать при работе с этой подложкой?
A2: Используйте антистатические инструменты и работайте в контролируемой чистой среде, чтобы избежать загрязнения частицами. Для сохранения свойств пленки рекомендуется правильное хранение в контролируемых по влажности условиях.

Q3: Возможно ли изменение размеров подложки для конкретных применений?
A3: Да, возможна корректировка диаметра, толщины и параметров осаждения пленки. Индивидуальные заказы обрабатываются в соответствии с подробными спецификациями для удовлетворения конкретных требований к полупроводникам или микроэлектронике.

Дополнительная информация

Нитрид алюминия (AlN) ценится в высокотемпературной электронике и производстве полупроводников благодаря своей высокой теплопроводности и изоляционным свойствам. Сапфировые (Al2O3) подложки часто используются благодаря своей оптической чистоте и структурно прочной кристаллической ориентации, облегчающей точное осаждение пленки. Интеграция этих материалов способствует повышению производительности устройств, особенно в приложениях, требующих эффективной терморегуляции и электроизоляции.

Сочетание AlN с сапфиром приводит к созданию подложек с низким несоответствием решеток и уменьшением теплового напряжения, что имеет ключевое значение для современной электронной упаковки и применения высокочастотных схем. Понимание их взаимодействия необходимо для оптимизации производительности микроэлектронных и оптоэлектронных систем.