AL10303 Односторонний полированный шаблон из нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм

Односторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм пленка AlN 5000 нм Описание

Эта подложка состоит из пленки нитрида алюминия (AlN), точно отполированной на подложке из сапфира (Al2O3). Размеры 2 "x 0,5 мм сохраняются при толщине пленки 5000 нм, что обеспечивает совместимость с инструментами для обработки полупроводников. Полированная поверхность обеспечивает улучшенную однородность интерфейса, что очень важно для минимизации дефектов при изготовлении устройств и последующих процессах интеграции.

Односторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм пленка AlN 5000 нм Применение

1.Электроника
- Используется в качестве диэлектрического слоя в интегральных схемах для достижения контролируемой емкости за счет использования однородной поверхности.
- Применяется в радиочастотных модулях для минимизации потерь сигнала за счет использования контролируемой толщины пленки материала.

2.Обработка полупроводников
- Служит в качестве подложки в микроэлектронных устройствах для повышения воспроизводимости процесса за счет обеспечения гладкой поверхности с минимальным количеством дефектов.
- Часто используется для тестовых структур в современной упаковке для достижения точной однородности пленки.

3.Промышленные датчики
- Используется в качестве компонента в массивах датчиков для высокотемпературных сред благодаря своей химической инертности и высокой теплопроводности.
- Применяется в оптических системах для обеспечения стабильной платформы для калибровки и постоянства характеристик.

Односторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 2 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм Упаковка

Продукт упакован в антистатический лоток, помещенный в коробку с пенопластовой прокладкой для предотвращения механических повреждений и загрязнений. На полированную поверхность нанесены защитные пленки. Для сохранения целостности подложки рекомендуется хранение в чистой, контролируемой по температуре среде. Возможна индивидуальная упаковка в соответствии с особыми требованиями к обработке, маркировке и транспортировке.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Какие меры контроля качества применяются при производстве данного шаблона?
A1: SAM использует оптическую микроскопию и профилометрию для оценки однородности полированной поверхности и контроля толщины пленки. Эти систематические проверки помогают свести к минимуму дефекты поверхности и обеспечить постоянство размеров.

В2: Как структура подложки влияет на обработку полупроводников?
A2: Равномерная полированная пленка AlN, нанесенная на сапфир, улучшает адгезию слоев и минимизирует межфазные дефекты. Это способствует воспроизводимости процесса и улучшению характеристик устройств во время высокотемпературных циклов изготовления.

Q3: Можно ли изменить размеры подложки или свойства пленки под заказ?
A3: Да, размеры подложки и толщина пленки могут быть изменены. Для адаптации подложки к конкретным полупроводниковым приложениям проводятся подробные обсуждения желаемых свойств материала и параметров обработки.

Дополнительная информация

Подложки из нитрида алюминия (AlN) получили широкое признание в передовых керамических технологиях благодаря высокой теплопроводности и отличным электроизоляционным свойствам. Интеграция пленок AlN с сапфировыми подложками обеспечивает баланс между механической стабильностью и тепловыми характеристиками, что благоприятно сказывается на различных областях применения полупроводниковых устройств.

Понимание взаимосвязи между однородностью пленки и совместимостью процессов имеет решающее значение для оптимизации производства устройств. Детальная характеризация материала, включая анализ шероховатости поверхности и плотности дефектов, является неотъемлемой частью обеспечения соответствия этих подложек строгим промышленным стандартам.