AL10305 Односторонний полированный шаблон из нитрида алюминия на сапфире (0001) 4 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм

Подложка с односторонней полировкой из нитрида алюминия на сапфире (0001) 4 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм Описание

Эта подложка представляет собой пленку нитрида алюминия, нанесенную на сапфировую (Al2O3) платформу с односторонней полировкой, которая минимизирует шероховатость поверхности. Диаметр 4 дюйма и толщина 0,5 мм обеспечивают совместимость со стандартным оборудованием для производства полупроводников, а толщина пленки 5000 нм способствует эффективной теплопроводности и механической прочности. XRD- и SEM-анализы подтверждают кристаллическую структуру и морфологию поверхности, обеспечивая уверенность в ее эффективности для прецизионных приложений.

Односторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 4 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм Применение

1.производство электроники
- Использование в качестве компонента подложки в светодиодных устройствах для достижения улучшенного рассеивания тепла за счет высокой теплопроводности.
- Применяется в качестве диэлектрического слоя в радиочастотных компонентах для оптимизации характеристик сигнала благодаря гладкой полированной поверхности.

2.Технология промышленных датчиков
- Служит основой для высокотемпературных датчиков, обеспечивая стабильную работу за счет устойчивости керамики.
- Используется в качестве составной части в силовых модулях для обеспечения терморегулирования благодаря равномерной структуре пленки.

Односторонний полированный шаблон нитрида алюминия на сапфире (0001) 4 дюйма x 0,5 мм AlN пленка 5000 нм Упаковка

Подложка упакована в антистатический контейнер с пенопластовой прокладкой и влагозащитным барьером для предотвращения механических и электростатических повреждений. Она хранится при контролируемой температуре и влажности для поддержания целостности материала. Для удовлетворения особых требований к транспортировке и логистике чувствительных электронных приложений доступны дополнительные опции, включая защитные слои и индивидуальную маркировку.

Часто задаваемые вопросы

Q1: Как обеспечивается чистота поверхности подложки?
A1: В процессе производства подложки подвергаются тщательному SEM-контролю и XRD-анализу. Это обеспечивает минимальную шероховатость поверхности и подтверждает равномерное выравнивание пленки AlN, что необходимо для интеграции высокопроизводительных устройств.

Q2: Какие методы контроля обработки способствуют повышению тепловых характеристик?
A2: Осаждение пленки AlN тщательно контролируется для достижения равномерной толщины 5000 нм. Этот слой вместе с сапфировым основанием обеспечивает эффективный отвод тепла и сохраняет стабильность структуры при эксплуатационных нагрузках.

Q3: Можно ли изменить размеры подложки для уникальных приложений?
A3: Да, SAM предлагает корректировку размеров подложки и толщины пленки в зависимости от требований конкретного устройства. Такая гибкость обеспечивает интеграцию в различные процессы производства полупроводников при сохранении критически важных тепловых и механических свойств.

Дополнительная информация

Керамические подложки, такие как пленки нитрида алюминия на сапфире, являются неотъемлемой частью приложений, требующих высокой теплопроводности и электроизоляции. Сочетание AlN и Al2O3 обеспечивает баланс между терморегулированием и структурной целостностью, что крайне важно для электронных схем и оптоэлектронных устройств высокой плотности.

Достижения в области методов осаждения и метрологии поверхности повысили точность керамических подложек. Понимание взаимосвязи между микроструктурой и тепловыми свойствами является ключом к оптимизации работы в сложных производственных условиях, что еще раз подчеркивает важность систематического контроля качества в материаловедении.