CY8541 Кристаллическая подложка из кремния (Si) (111) 10x10 мм

Описание Кристаллическая подложка из кремния (Si) (111) 10x10 мм

Кристаллическая подложка из кремния (Si) (111) 10×10 мм представляет собой стабильно однородную и прочную основу для различных исследовательских и промышленных применений. Кристаллографическая ориентация (111) обеспечивает исключительную однородность решетки, что делает ее идеальной для разработки современных полупроводниковых устройств, эпитаксиального роста и изучения поверхности. Изготовленная в соответствии со строгими стандартами чистоты, эта подложка имеет минимальное количество дефектов и удивительно гладкую поверхность. Ее монокристаллическая структура обеспечивает предсказуемое поведение носителей заряда и исключительную термическую стабильность.

Соответствуя строгим стандартам качества, каждая подложка проходит тщательный контроль, гарантирующий точность резки, постоянную толщину и превосходную плоскостность. Эти качества позволяют производить высокопроизводительные компоненты и микросхемы, поддерживая производство микроэлектроники, МЭМС и датчиков. Надежное качество материала и точность ориентации делают эту подложку ценным решением для тех, кто стремится к совершенству как в исследовательской, так и в производственной среде.

Кристаллическая подложка из кремния (Si) (111) 10x10 мм Применение

Кристаллическая подложка кремния (Si) (111) 10x10 мм ценится за точную атомную ориентацию, высокую чистоту и отличные электрические свойства. Ее однородная кристаллическая структура поддерживает передовые полупроводниковые технологии, а ориентация поверхности (111) улучшает совместимость с процессами эпитаксиального роста. Такое сочетание точности, стабильности и электропроводности делает подложку очень универсальной, позволяя создавать прорывные решения в промышленности, исследованиях и коммерции.

1. Промышленные применения

-Производство пластин: Обеспечивает производство высокопроизводительных интегральных схем и силовых устройств.

-Производство датчиков: обеспечивает стабильную кристаллическую основу для датчиков, гарантируя точные и надежные измерения в жестких условиях.

2. Научно-исследовательские применения

-Исследования тонких пленок: идеальная поверхность для изучения методов роста и осаждения материалов.

-Квантовые вычисления: служит надежной подложкой для тестирования квантовых устройств и изучения новых вычислительных архитектур.

3. Коммерческие приложения

-Оптоэлектронные устройства: Способствует разработке инновационных дисплеев, фотонных компонентов и коммуникационных модулей.

-Потребительская электроника: Формирует основу передовых процессоров и специализированных чипов, используемых в смартфонах, носимых устройствах и многом другом.

Кристаллическая подложка кремния (Si) (111) в упаковке 10x10 мм

Каждая кристаллическая подложка кремния (Si) (111) размером 10x10 мм тщательно упакована в антистатический пакет и проложена пенопластовыми вставками для предотвращения механических повреждений. Герметичный, влагостойкий контейнер обеспечивает защиту от влажности. Подложку следует хранить в чистом, непыльном помещении при комнатной температуре. Двойная герметизация дополнительно минимизирует риски загрязнения. Нестандартные опции включают специализированные покрытия, вариации толщины и уникальную маркировку ориентации.

Упаковка: Вакуумная герметичная упаковка, деревянная коробка или по индивидуальному заказу.

Кристаллическая подложка из кремния (Si) (111) 10x10 мм Вопросы и ответы

Q1: Каковы основные свойства материала кремниевой (Si) кристаллической подложки (111) 10x10 мм?

A1: Эта подложка представляет собой монокристаллический кремний с ориентацией (111), обеспечивающий постоянную плоскость кристаллической решетки для изготовления современных устройств. Обычно она имеет удельное сопротивление в диапазоне от 1 до 10 Ω-см, что обеспечивает стабильную подвижность электронов. Поверхность полируется с одной стороны, достигая шероховатости менее 5 Å. Чистота 99,9999 % обеспечивает однородный состав, способствующий надежным процессам микроэлектроники. Более того, его четко определенная кристаллографическая структура поддерживает эпитаксиальный рост для различных полупроводниковых рутин.

В2: Как следует обращаться с этим продуктом и хранить его?

A2: При работе с подложкой надевайте чистые перчатки, чтобы предотвратить загрязнение, и избегайте прямого контакта с полированной поверхностью. Используйте специальные пинцеты или вакуумные палочки, чтобы минимизировать механические нагрузки. Храните в чистом помещении с низкой влажностью, в идеале - в продуваемом азотом дезиккаторе. Для сохранения кристаллографической целостности защищайте их от резких перепадов температуры. Индивидуально упаковывайте каждую подложку в антистатический контейнер, чтобы предотвратить повреждение поверхности.

Q3: Какие стандарты качества и сертификаты применяются к кремниевой (Si) кристаллической подложке (111) 10x10 мм?

A3: Признанные в отрасли сертификаты, такие как ISO 9001:2015 и ISO 14001:2015, часто применяются к производственным процессам, обеспечивая постоянное качество и экологическую ответственность. Подложки также соответствуют спецификациям SEMI M1, включающим допуски на размеры, шероховатость поверхности и общую плотность дефектов. Кроме того, в документации могут быть ссылки на ASTM F76 или эквивалентные стандарты для измерения удельного сопротивления и профилей легирования. Соответствие нормам RoHS и REACH обычно гарантируется для удовлетворения требований мирового рынка.

Сопутствующая информация

1. Процесс производства

Производство кремниевой (Si) кристаллической подложки (111) 10x10 мм обычно начинается с тщательного отбора слитков монокристаллического кремния. Эти слитки выращиваются в строго контролируемых термических и атмосферных условиях для поддержания однородности ориентации и чистоты кристаллов. Передовые методы вытягивания, такие как метод Чохральского, помогают достичь превосходной кристаллической структуры, которая идеально соответствует ориентации (111). Это обеспечивает минимальное количество дефектов, что делает его идеальным для устройств, требующих высокой точности и стабильности.

На этапе формирования кристалла слиток нарезается на подложки с помощью специализированного алмазного оборудования, предназначенного для достижения постоянной толщины и превосходного качества поверхности. Затем каждая подложка подвергается процессу полировки, который устраняет шероховатость поверхности, обеспечивая гладкие интерфейсы в последующих приложениях. Точный контроль размеров, обеспечивающий формат 10x10 мм, гарантирует совместимость с широким спектром систем микрофабрикации и повышает производительность линий по производству полупроводников.

2. Применение в передовых отраслях промышленности

Такие передовые отрасли, как микроэлектроника, сенсорные технологии и фотоника, полагаются на ориентацию кристаллов (111) в приложениях, требующих низкой плотности дефектов и оптимальной подвижности носителей заряда. Кристаллическая подложка кремния (Si) (111) 10x10 мм особенно ценится в этих отраслях благодаря своей способности сохранять структурную целостность при интенсивной обработке, включая высокотемпературную диффузию и ионную имплантацию. Стабильное расположение решетки способствует эффективному прохождению проводящих путей, что крайне важно для критически важной электроники на уровне пластин.

В сфере квантовых вычислений и новых интегральных схем эта специализированная подложка служит отличной основой для исследований и инженерных прорывов. Ее точный размер 10x10 мм позволяет использовать передовые методы литографии, обеспечивая точное нанесение рисунка на устройство и сокращая отходы материала. Исследователи часто используют кристаллографическую плоскость (111) для изучения новых архитектур квантовых точек и компонентов спинтроники, что делает ее основным материалом для инноваций, находящихся на переднем крае современных технологий.