CY8924 CVD Монослойный диселенид молибдена на подложке SiO2/Si Пленка MoSe2 10x10 мм

CVD монослой диселенида молибдена на подложке SiO2/Si Пленка MoSe2 10x10 мм Описание

Ощутите вершину исследований двумерных полупроводников с нашим CVD-монослоем диселенида молибдена (MoSe2) на подложке SiO2/Si, предлагаемым в удобном формате 10×10 мм. Пленка MoSe2 толщиной в один атом тщательно выращена методом химического осаждения из паровой фазы, что обеспечивает исключительную однородность и высокое качество кристаллической структуры. Прямая полоса пропускания и отличная подвижность носителей заряда позволяют точно контролировать оптические и электронные характеристики, что делает ее идеальной для передовых исследований и создания прототипов устройств.

Созданная в соответствии со строгими стандартами качества, эта монослойная пленка MoSe2 демонстрирует высокую химическую стабильность и воспроизводимость, обеспечивая неизменность результатов в различных экспериментах. Применяется ли она в разработке транзисторов нового поколения, фотоприемников или гибкой электроники, наш продукт отличается превосходной надежностью и производительностью. Расширьте границы своих исследований с помощью этого прорывного материала, находящегося на переднем крае нанотехнологий.

Монослойный CVD-диселенид молибдена на подложке SiO2/Si Пленка MoSe2 10x10 мм Применение

CVD-монослойный диселенид молибдена (MoSe2) на подложке SiO2/Si - это двумерный материал нового поколения, известный своими исключительными полупроводниковыми, оптическими и механическими свойствами. Его широкая полоса пропускания и прочная структура позволяют использовать передовые функциональные возможности во многих отраслях промышленности. Обладая широким спектром применений - от электроники до катализа - эта высококачественная пленка MoSe2 открывает новые возможности для инновационных исследований, разработки продуктов и эффективного производства.

1. Электроника и полупроводниковая техника

-Служит ультратонким канальным материалом в высокопроизводительных транзисторах, позволяя создавать более быстрые и энергоэффективные схемы.

-Способствует чувствительной фотодетекции в новейших устройствах формирования изображений, повышая разрешение бытовых и промышленных камер.

2. Медицина и здравоохранение

-Усовершенствованные биосенсорные платформы для экспресс-диагностики, повышающие точность и скорость тестирования пациентов.

-Интегрируется в носимые системы мониторинга здоровья, обеспечивая непрерывное наблюдение за жизненно важными показателями и раннее обнаружение аномалий.

3. исследовательские и научные приборы

-Обеспечивает надежную испытательную подложку для исследований двумерных квантовых явлений в электронике и оптоэлектронике.

-Поддерживает фундаментальные исследования низкоразмерных материалов, позволяя исследователям изучать новые архитектуры и функциональные возможности устройств.

CVD-монослой диселенида молибдена на SiO2/Si подложке MoSe2 Film 10x10 мм упаковка

Каждая монослойная CVD-пленка диселенида молибдена на подложке SiO2/Si размером 10x10 мм тщательно упакована в герметичный антистатический контейнер для сохранения качества образца. Окруженная пенопластовыми вставками и силикагелем, она защищена от вибраций, влаги и загрязнений. Для предотвращения деградации рекомендуется хранить пленку в сухой, чистой среде. По запросу возможны нестандартные варианты упаковки для удовлетворения особых требований к обработке и транспортировке.

Упаковка: Вакуумная герметичная упаковка, деревянная коробка или по индивидуальному заказу.

Монослойный CVD-диселенид молибдена на SiO2/Si подложке MoSe2 пленка 10x10 мм Вопросы и ответы

Q1: Каковы основные свойства материала CVD монослоя диселенида молибдена на SiO2/Si подложке MoSe2 Film 10x10 мм?

A1: Данный продукт представляет собой монослойную пленку MoSe2, нанесенную на подложку SiO2/Si, которая отличается исключительной тонкостью для проведения передовых оптических и электронных исследований. Она демонстрирует прямую полосовую щель около 1,55 эВ, высокую подвижность носителей и однородную морфологию поверхности, подтвержденную спектроскопией комбинационного рассеяния и атомно-силовой микроскопией. Размер подложки составляет 10x10 мм, что обеспечивает удобную платформу для изготовления устройств, определения характеристик материалов и фундаментальных исследований в области двумерных полупроводников.

В2: Как следует обращаться с данным продуктом и хранить его, чтобы сохранить его целостность?

A2: Правильное обращение предполагает использование перчаток для чистых помещений и неметаллических пинцетов, чтобы не поцарапать хрупкую поверхность монослоя. Храните образец в камере с низкой влажностью или вакуумном осушителе для предотвращения адсорбции влаги и загрязняющих веществ. Сведите к минимуму воздействие прямого света и чрезмерного тепла, чтобы сохранить оптические и электрические свойства. При необходимости рекомендуется осторожная очистка с помощью соответствующего растворителя.

Q3: Какие стандарты качества и сертификаты применяются к CVD-монослойной диселенид молибдена на SiO2/Si подложке MoSe2 Film 10x10 мм?

A3: При производстве данной пленки MoSe2 обычно соблюдаются признанные международные стандарты, такие как ISO 9001 для систем управления качеством и ISO 14001 для управления окружающей средой. Материалы подложки и тонкой пленки часто тестируются в соответствии с протоколами ASTM для проверки однородности толщины, химической чистоты и оптических/электрических свойств. Эти меры помогают обеспечить стабильную производительность и надежность в коммерческих и промышленных приложениях.

Сопутствующая информация

1. Свойства и преимущества материала

Преимуществом монослойной пленки MoSe2 (10x10 мм) из диселенида молибдена на подложке SiO2/Si, полученной методом CVD, является ее исключительное оптическое поглощение, что делает ее особенно подходящей для фотонных устройств. Равномерная толщина монослоя способствует стабильному и постоянному зазору по всей поверхности, обеспечивая надежную работу в различных электронных приложениях.

Благодаря двумерной природе монослоя, он демонстрирует высокую подвижность носителей и минимальное рассеяние, что обеспечивает эффективный перенос заряда в транзисторных архитектурах. Кроме того, прочная кристаллическая структура пленки повышает ее экологическую стабильность, делая ее удивительно устойчивой к деградации в условиях окружающей среды.

2. Применение в передовых отраслях промышленности

Передовые исследовательские институты и производители полупроводников все чаще используют CVD-монослойные пленки диселенида молибдена на SiO2/Si Substrate MoSe2 (10x10 мм) в оптоэлектронных системах нового поколения, включая высокочувствительные фотодетекторы и маломощные полевые транзисторы. Компактный размер и равномерная толщина монослоя помогают оптимизировать характеристики при минимальном использовании материалов, что является преимуществом в стремлении к созданию более компактных и эффективных устройств.

Демонстрация успешной интеграции этой пленки в гибкую электронику указывает на перспективность ее применения в новых носимых устройствах, датчиках и складных дисплеях. Высокая степень контроля над свойствами поверхности позволяет создавать точные устройства, способствуя инновациям в различных областях, таких как биомедицинские приборы, телекоммуникации и бытовая электроника.