Целевой мишень для напыления диоксида титана (Ti2O3) ST0195

Описание мишени для распыления диоксида титана (Ti2O3)

Мишень для распыления диоксида титана (Ti2O3) сконструирована с учетом строгих требований современных процессов осаждения тонких пленок. Производится с акцентом на высокую чистоту (≥99%) и точность, эта мишень доступна в стандартном формате дисков или может быть изготовлена на заказ в соответствии с конкретными промышленными требованиями. С температурой плавления примерно 2130℃ и плотностью 4,49 г/см³, материал оптимизирован для высокотемпературных приложений в передовых покрытиях и полупроводниковой индустрии. Разработанная для обеспечения отличной производительности и воспроизводимости, наша мишень для распыления поддерживает надежное и последовательное образование пленок для различных высокотехнологичных приложений.

Применение мишени для распыления диоксида титана (Ti2O3)

· Осаждение тонкой пленки: Критически важно для изготовления полупроводниковых устройств, оптических покрытий и микроэлектронных компонентов.
· Передовые покрытия: Используется в производстве износостойких, высокотемпературных покрытий во всех секторах промышленности.
· Научные исследования и разработки: Идеально подходит для экспериментальных установок в области материаловедения и инженерных исследований.
· Производство электронных компонентов: Поддерживает процессы осаждения, необходимые для современных электронных и сенсорных устройств.

Упаковка мишени для распыления диоксида титана (Ti2O3)

Наша мишень для распыления диоксида титана (Ti2O3) упакована в соответствии со спецификациями клиента для обеспечения оптимального сохранения и удобства обращения. Стандартные методы упаковки включают вакуумную упаковку и индивидуальные конфигурации упаковки для поддержания целостности материала во время транспортировки и хранения.

Часто задаваемые вопросы

В: Что делает диоксид титана (Ti2O3) идеальным материалом для мишеней для распыления?
О: Его высокая чистота (≥99%), высокая температура плавления и прочные физические свойства обеспечивают стабильную производительность в процессах осаждения при высоких температурах.

В: Можно ли настроить формы мишеней для распыления?
О: Да, мишени доступны как в стандартном формате дисков, так и в индивидуально изготовленных формах для удовлетворения специфических требований приложений.

В: Как высокая температура плавления ~2130℃ приносит пользу приложениям для распыления?
О: Высокая температура плавления позволяет материалу выдерживать интенсивные тепловые нагрузки во время осаждения, обеспечивая долговечность и стабильность производительности.

В: Какую роль играет индиевый сплав в этих мишенях для распыления?
О: Индиевый сплав улучшает прочность соединения между материалом мишени и подложкой, улучшая теплопередачу и общую производительность мишени.

В: В каких отраслях обычно используются мишени для распыления диоксида титана?
О: Они широко используются в производстве полупроводников, производстве оптических покрытий, в передовой электронике и в исследовательских лабораториях, сосредоточенных на осаждении тонких пленок.