Целевое покрытие из оксида ванадия (V2O5)

Описание мишени для распыления оксида ванадия (V2O5)

Мишень для распыления оксида ванадия (V2O5) обеспечивает высокую производительность в современных процессах осаждения тонких пленок. Изготовленная с чистотой ≥99% и представлена в различных формах, включая диски или индивидуально изготовленные конфигурации, эта мишень для распыления обеспечивает равномерное распределение материала и стабильность во время RF-распыления. Ее выдающиеся свойства, такие как температура плавления 690℃ и плотность 3,36 г/см³, делают ее идеальной для широкого спектра применений в отрасли полупроводников, photovoltaics и технологий дисплеев.

Применение мишени для распыления оксида ванадия (V2O5)

· Производство полупроводников: необходимо для процессов RF-распыления, используемых в изготовлении микроэлектронных компонентов.
· Технологии дисплеев: используется в осаждении тонких пленок для высококачественных дисплеев и оптических устройств.
· Фотовольтаика: повышает производительность и эффективность изготовления солнечных элементов.
· Приложения для продвинутых покрытий: обеспечивает высокое качество материала для оптических покрытий и технологий датчиков.

Упаковка мишени для распыления оксида ванадия (V2O5)

Наши мишени для распыления оксида ванадия (V2O5) тщательно упакованы для сохранения целостности и чистоты продукта во время хранения и транспортировки.
- Вакуумная упаковка обеспечивает оптимальную защиту.
- Доступны варианты индивидуальной упаковки для выполнения специфических требований клиентов.

Часто задаваемые вопросы

В: Каковы преимущества использования мишени для распыления оксида ванадия (V2O5)?
О: Она предоставляет высокую чистоту и однородность, обеспечивая последовательное осаждение тонких пленок и отличную производительность в процессах RF-распыления.

В: Как работает процесс RF-распыления с этой мишенью?
О: RF-распыление использует радиочастотную энергию для генерации плазмы, которая выбивает частицы из мишени, которые затем осаждаются на подложку для формирования тонкой пленки.

В: Можно ли изготовить мишень в индивидуальных формах?
О: Да, помимо стандартных дисков, мишень может быть изготовлена индивидуально для выполнения специфических требований приложений.

В: Как плотность материала влияет на процесс распыления?
О: Плотность 3,36 г/см³ способствует стабильной и последовательной производительности распыления, обеспечивая равномерное удаление материала при осаждении.

В: Какие отрасли наиболее выигрывают от использования мишени для распыления оксида ванадия (V2O5)?
О: Она широко используется в производстве полупроводников, изготовлении фотовольтаических элементов, современных технологиях дисплеев и специализированных приложениях для покрытия.