Описание материалов для выпаривания фторида натрия
Фторид натрия - это соединение, состоящее из натрия и фтора, образующее бесцветное кристаллическое твердое вещество с кубической кристаллической структурой. При использовании в качестве испарительного материала фторид натрия обладает рядом ключевых характеристик, которые делают его пригодным для осаждения тонких пленок:
- Высокая температура плавления: Фторид натрия обладает относительно высокой температурой плавления - около 993°C (1819°F). Эта характеристика позволяет ему выдерживать тепло, выделяемое в процессе осаждения, без преждевременной сублимации.
- Стабильное давление паров: фторид натрия имеет стабильное давление паров при повышенных температурах, что обеспечивает постоянную и контролируемую скорость испарения в процессе осаждения. Такая стабильность способствует однородности осажденных тонких пленок.
- Реактивная природа: Фторид натрия известен своей реакционной способностью, особенно с влагой. Важно работать с материалами для испарения фторида натрия в контролируемых условиях, чтобы избежать загрязнения или реакции с атмосферной влагой.
- Широкий диапазон пропускания: Тонкие пленки фторида натрия обладают превосходной оптической прозрачностью в спектральном диапазоне от ультрафиолетового (УФ) до инфракрасного (ИК). Это свойство делает их пригодными для нанесения оптических покрытий, антибликовых покрытий и других применений, требующих точного контроля над пропусканием света.
Технические характеристики материалов для испарения фторида натрия
Свойство |
Описание |
Тип материала |
Фторид натрия |
Химический символ |
NaF |
Внешний вид/цвет |
Твердое вещество, от белого до зеленоватого цвета |
Температура плавления |
993 °C (1,819 °F; 1,266 K) |
Плотность |
2,558 г/см3 |
Чистота |
99.9% |
Доступные формы |
Порошок, гранулы, индивидуальные формы |
Применение материалов для выпаривания фторида натрия
Материалы для испарения фторида натрия находят разнообразное применение в передовых процессах осаждения, включая:
-
Осаждение полупроводников: Эти материалы способствуют изготовлению полупроводников, обеспечивая точность и качество электронных компонентов.
-
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD): Фторид натрия играет ключевую роль в методах CVD, способствуя созданию контролируемых тонких пленок с желаемыми свойствами, особенно в электронике и оптике.
-
Физическое осаждение из паровой фазы (PVD): Процессы PVD выгодно отличаются от фторида натрия, особенно при создании покрытий, которые демонстрируют повышенную износостойкость и привлекательные оптические характеристики.
Упаковка материалов для испарения фторида натрия
Наши материалы для выпаривания фторида натрия проходят тщательную внешнюю маркировку, обеспечивающую эффективную идентификацию и бескомпромиссный контроль качества. Мы тщательно следим за тем, чтобы предотвратить любые возможные повреждения во время хранения или транспортировки.