Кристаллическая подложка из рутилового диоксида титана (TiO2) CY2356

Каталог нет.	CY2356
Размеры	5×5×10 мм, 5×10×10 мм, 10×10×0,5 мм,
Материал	TiO2
Метод роста	Метод пламени, метод плавающей зоны

Наши оптические подложки из диоксида титана, выращенные без легирования по Чохральскому, с высокой оптической однородностью, исключающей центральное ядро кристаллических булей, без видимых полос с теневой графикой, включений и пузырьков.

Сопутствующие товары: Кристаллические подложки KTaO3, Кристаллические подложки LSAT, Кристаллические подложки LiF, Монокристаллические подложки антимонида галлия.

Запрос

Rutile Titanium Dioxide (TiO2) Crystal Substrate

Описание

Технические характеристики

Отзывы

ПОСЛЕДНЯЯ РЕКОМЕНДАЦИЯ

https://www.samaterials.com/images/sc/1765956847-normal-CY2173.jpg

Сапфировая пластина CY2173

Кремниевая пластина CY2174

Пластина из карбида кремния CY2175

SC2275 Кремниевая термооксидная пластина

Подложки для пластин из оксида цинка ZN2277

Potassium Tantalate (KTaO3) Crystal Substrates

CY2298 Танталат калия (KTaO3) Кристаллические субстраты

Кристаллические подложки CY2299 LSAT

Lithium Fluoride (LiF) Crystal Substrates

CY2300 Подложки для кристаллов фторида лития (LiF)

ЗАПРОСИТЬ ЦЕНУ

Отправьте нам запрос сегодня, чтобы узнать больше и получить актуальные цены. Спасибо!

* Ваше имя

* Ваш e-mail

Для оперативной обработки просьба использовать адрес электронной почты вашей компании.

* Название продукта

* Ваш телефон

* Страна

Соединенные Штаты

Комментарии

Я хотел бы подписаться на рассылку, чтобы получать новости от Stanford Advanced Materials.

Attach Drawing:

Drop files here or

* Проверочный код

Accepted file types: PDF, png, jpg, jpeg. Upload multiple files at once; each file must be under 2MB.

Основной параметр возможностей
Кристаллическая структура	Тетрагональная система
Постоянная решетки	a=4.5936Å c=2.9582 Å
Метод выращивания	Пламенный метод, метод плавающей зоны
Плотность	4,26（g/cm3）
Температура плавления	1870°C
Теплоемкость	0.17（25°C）
Передача	0.5～4.5um
Показатель преломления	no=2.47 ne=2.73 при λ=1.3um
Термооптический коэффициент	dη/dT：a：-0.72×106/k c：-0.42×10-6/k
Коэффициент линейного расширения	a：7.14×106 c：9.19×106
Твердость	7（mohs）
Кристаллический стержень	Φ25мм×90мм
Ориентация	<001>, <110>, <100>, <111>
Стандартный размер	5×5×10мм, 5×10×10мм, 10×10×0,5мм, диам. 20 мм × 0,5 мм
Полировка	Одиночная или двойная сторона полированная
Допуск и оптическое качество	Допуск на размеры: +0,1 мм, Допуск ориентации: ±0.5 o Параллельность: <30", Плоскостность: <λ/4, Вертикальность: <30", Качество поверхности: 10/5

Основной параметр способности
Кристаллическая структура	Тетрагональная система
Постоянная решетки	a=4.5936Å c=2.9582 Å
Метод выращивания	Пламенный метод, метод плавающей зоны
Плотность	4,26（g/cm3）
Температура плавления	1870°C
Теплоемкость	0.17（25°C）
Передача	0.5～4.5um
Показатель преломления	no=2.47 ne=2.73 при λ=1.3um
Термооптический коэффициент	dη/dT：a：-0.72×106/k c：-0.42×10-6/k
Коэффициент линейного расширения	a：7.14×106 c：9.19×106
Твердость	7（mohs）
Кристаллический стержень	Φ25мм×90мм
Ориентация	<001>, <110>, <100>, <111>
Стандартный размер	5×5×10мм, 5×10×10мм, 10×10×0,5мм, диам. 20 мм × 0,5 мм
Полировка	Одиночная или двойная сторона полированная
Допуск и оптическое качество	Допуск на размеры: +0,1 мм, Допуск ориентации: ±0.5 o Параллельность: <30", Плоскостность: <λ/4, Вертикальность: <30", Качество поверхности: 10/5

Кристаллическая подложка из рутилового диоксида титана (TiO2) CY2356

Описание кристаллической подложки из рутилового диоксида титана

Технические характеристики кристаллической подложки рутилового диоксида титана

Применение кристаллической подложки из диоксида титана рутила

Технические характеристики

SDS

Случай

ОТЗЫВЫ КЛИЕНТОВ

ПОСЛЕДНЯЯ РЕКОМЕНДАЦИЯ

ЗАПРОСИТЬ ЦЕНУ

НУЖНА ПОМОЩЬ?

ПОПУЛЯРНЫЕ КАТЕГОРИИ

НАША КОМПАНИЯ